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硅烯氢化的扫描隧道显微镜研究

主 讲 人 :邱静岚    博士

活动时间:05月04日14时30分    

地      点 :理科群2号楼A302

讲座内容:

最近几年,在硅基研究领域兴起了一种类石墨烯的新型二维材料—硅烯(Silicene)。与石墨烯的平面型蜂窝结构有所不同的是,硅烯中的Si-Si原子之间以sp2-sp3混合杂化的方式形成具有弱翘曲(Low-buckled)的单原子层蜂窝结构。硅烯的这种弱翘曲结构使之具有许多异于石墨烯的优良电子性质,比如具有较大的自旋-轨道耦合能隙、对电场有更强的响应以及更容易与外来的原子、分子发生相互作用等。氢化是调控二维材料结构及电子性质的一种有效手段,研究表明,石墨烯氢化后可以得到较大带隙的石墨烷(Graphane),从而调控石墨烯的零能隙结构以利于电子器件方面的应用。在本报告中,我们将介绍利用分子束外延及扫描隧道显微技术研究在Ag(111)衬底上制备得到的两种不同单层硅烯相的氢化问题,揭示氢原子在硅烯上的吸附过程、吸附结构以及具体的吸附机理。该工作为硅烯的其它电子性质研究奠定了重要的实验基础。  

主讲人介绍:

邱静岚博士,女,1988年9月生,福建泉州人。2010年本科毕业于西南大学物理学师范专业,之后被保送至中国科学院物理研究所硕博连读,师从于表面物理国家重点实验室吴克辉研究员,主要从事低维材料的分子束外延生长与物性调控方面的研究,于2016年1月获得理学博士学位。

发布时间:2016-05-03 15:24:04

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